应用于未来CMOS器件中的叠层纳米线和亚纳米高介电系数介质膜的制备技术的开发

确定取消应用

校友网 English

暂时无用栏目

科研项目: 国家自然科学基金重点项目; 国家自然科学基金面上项目; 国家自然科学基金青年基金

工程硕士1

招生信息

学术论文

发明专利

培训项目

交流合作

表格下载

人才招聘

test

采集

师资队伍备份

国家自然科学基金面上项目

您的位置 : 首页暂时无用栏目科研项目国家自然科学基金面上项目

应用于未来CMOS器件中的叠层纳米线和亚纳米高介电系数介质膜的制备技术的开发

发布日期：2018-11-14 阅读次数：158

| 实验中心| 教学网站| 捐赠基金| 教工工会| 院资料室| 安全教育| 微信电| 联络指南| 网站地图| 关于本站|

地址 : 浙江大学紫金港校区

地址 : 浙江大学玉泉校区

电话 : 0571-87953027

E-mail : isee@zju.edu.cn